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01月23日

直逼1nm工艺!ASML下一代EUV光刻机延期

作者 : admin | 分类 : 无锡市产业资讯 | 超过 16 人围观 | 已有 0 人发表了看法
原标题:直逼1nm工艺!ASML下一代EUV光刻机延期

直逼1nm工艺!ASML下一代EUV光刻机延期

ASML公司前两天发布了财报,全年净销售额140亿欧元,EUV光刻机出货31台,带来了45亿欧元的营收,单价差不多11.4亿欧元了。虽然业绩增长很亮眼,但是ASML也有隐忧,实际上EUV光刻机的出货不及预期的35台, 而且他们还宣布了下一代高NA的EUV光刻机要到2025-2026年之间才能规模应用,意味着要延期了。

此前信息显示,ASML下一代EUV光刻机最早是2022年开始出样,大规模量产是2024-2025年间。

直逼1nm工艺!ASML下一代EUV光刻机延期

ASML的EUV光刻机目前主要是NEX:3400B/C系列,NA数值孔径是0.33,下一代EUV光刻机是NEX:5000系列,可将NA提升到了0.55, 意味着光刻机的分辨率提升了70%。(注:NA越高,光刻机精度越高)

目前的EUV光刻机可以用于制造7nm到3nm工艺的芯片,下代EUV光刻机则是针对3nm以下的节点,2nm甚至未来的1nm工艺都要用到NA 0.55的EUV光刻机。

直逼1nm工艺!ASML下一代EUV光刻机延期

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