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02月01日

全球刻蚀机巨头,推出革命性的新刻蚀技术?国产厂商赶紧跟进

作者 : admin | 分类 : 无锡市产业资讯 | 超过 17 人围观 | 已有 0 人发表了看法
原标题:全球刻蚀机巨头,推出革命性的新刻蚀技术?国产厂商赶紧跟进

众所周知,在芯片制造中,有两种设备都非常重要,一种是光刻机,一种是刻蚀机。光刻机是利用光线将电路图刻到涂了光刻胶的硅晶圆上。

而刻蚀机的作用,似乎与光刻机相反,它将光刻机加工后的硅晶圆板进行“腐蚀”,形成一个一个的“凹陷”,为芯片内部线路提供空间。

所以精准、“凹陷”的深度是刻蚀机的关键指标,每一代刻蚀机提升的,除了精度外,都需要实现更大的深度。

全球刻蚀机巨头,推出革命性的新刻蚀技术?国产厂商赶紧跟进

有意思的是,目前国内在光刻机上落后国际领先水平太远,比如国产最强的光刻机精度是90nm,而ASML的光刻机已经达到了5nm,论技术差距,至少是10年以上。

但国产刻蚀机则水平达到了国际领先水平,早就实现了5nm了,像中微半导体的5nm刻蚀机,早就搬进了台积电,用于苹果A14、麒麟9000等5nm芯片的生产了。

全球刻蚀机巨头,推出革命性的新刻蚀技术?国产厂商赶紧跟进

不过如果从市场份额来看,那还是国外的三巨头最强,美国泛林半导体、应用材料以及日本的东京电子这三家顶尖的蚀刻机公司占据了94%的市场。其中又以美国的泛林半导体最强。

而近日,泛林集团,发布了专为其最智能化的刻蚀平台Sense.i™所设计的最新介电质刻蚀技术Vantex™,这种技术能够控制了刻蚀的垂直角度,并能够实现更大的垂直深度。这样在芯片制造过程中,能够提高良率,降低成本,同时提升芯片密度。

全球刻蚀机巨头,推出革命性的新刻蚀技术?国产厂商赶紧跟进

按照泛林的说法,这项技术应用下的刻蚀机,将在2021年实现量产,最先应用在存储芯片上,将3D NAND和DRAM中的刻蚀深宽比提升至更高水平,然后再应用到其它的处理芯片中。

所以国产刻蚀机厂商,也赶紧跟进这一项技术吧,否则一旦落后了,就会步步落后,芯片产业真的是瞬息万变的。

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